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日本Otsuka大塚電子株式會社光譜儀|膜厚儀|提供技術支持國內總銷售





大塚電子株式會社主要經營范圍:光電技術的研發(fā),光電系統(tǒng)集成產品、工業(yè)測定和分析設備、儀器儀表及相關零部件的批發(fā)、進出口等。大豕為人類更健康而不斷**,懷著「多樣性」「**性」「世界化」的愿景,不斷的推出**產品,面向全球開展業(yè)務,為社會作出貢獻。以高速·高精度·高可靠性目有市場實際應用的分光器MCPD系列為基礎, 在中國的顯示器 市場上有著20年以上銷售實例,為許多廠家在研究開發(fā)、生產部門所使用。并且在光源·照明 相關方面,對***研究機構、各個廠家的銷售量在逐步擴大。 


分光光譜儀:高感度分光光譜儀 紫外/可見/近紅外光分光光譜儀
應用范圍:
發(fā)光光譜分析儀系統(tǒng)
反射光譜分析儀系統(tǒng)
穿透、吸收光譜分析儀系統(tǒng)
色度光譜分析儀系統(tǒng)
光源光譜分析儀系統(tǒng)(色度/輝度/照度)
膜厚光譜分析儀系統(tǒng)
董光光譜分析儀系統(tǒng)
雙折射相位差光譜分析儀
微光學元件光譜分析儀系統(tǒng)
產品規(guī)格:
分光光譜儀-2285C 分光光譜儀-3095C 分光光譜儀-3683C分光光譜儀-311C分光光譜儀-916C波長范圍 220~850nm 300~950nm 360~830nm 360~1100nm 900~1600nm分光系統(tǒng) 平面場型
檢測單位 電子冷卻型CCD圖像傳感器 電子冷卻型InGaAs圖像傳感器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch理論分辨率 1.4nm 0.7nm 1.4nm 0.7nm 1.0nm 0.5nm 1.6nm 0.8nm 1.9nm光纖規(guī)格 石英光纖、口徑φ12mm、長度約2m 摻鍺石英光纖、長度約2m
星測功能 發(fā)光光譜量測、反射率光譜量測、穿透率光譜量測、吸收光譜量測尺寸重量 110(W)x230(H)x282(D)mm,約6kg
產品特點:
*高動態(tài)范圍(HDR)光譜儀可量測透明、低對比、高反射率樣品,*適用于量測光通量。*有效抑制雜散光,*適合UV光譜分析。相較于本公司歷代分光光度計,雜光率僅約五分之一*曝光時間5msec~65sec*。適用于量測微弱光源以及架設于生產線上即時檢測等多元應用。"經過特殊設計纏系統(tǒng)光纖,展現穩(wěn)定的重復再現性量測,*小巧輕量化的設計,相較于歷代機型,容積比約減少60%。

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紫外/可見/近紅外光分光光譜儀
產品規(guī)格
型號規(guī)格28C311C3593C
波長范圍 220~800 nm 330~1100 nm 350~930 nm
分光元件 全息成像光柵、F=3、f=135mm
波長精度*1 ±0,3 nm>±0.5 nm ±0.3 nm
感光元件*2 電子制冷型CCD影像感測器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch解析能力 1.2nm 0.6nm 1.7nm 0.9nm 1.3nm 0.6nm
曝光時間*3 20msec~20sec
光纖規(guī)格 石英制光纖、固定口徑12mm、長約1m
通訊介面 USB Or LAN
尺寸重量 300(W)x170(H)x350(D)mm、約10kg
*1 波長校正用光源對汞物理輝線之確認值
*2 可選擇512ch或1024ch
*3 感度設定為Normal時
產品特點:
*多通道分光光譜儀高速量測紫外光(UV)、可見光(VIS)、近紅外光(NIR)光譜。
*功能豐富的專用軟體,可進行顯微分光、發(fā)光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光譜量測。
采用更專業(yè)的CCD影像感測器,感光能力較MCPD-3700約高出200~700倍,在微弱光領域亦實現了20~30倍的高信噪比。
**適用于低輝度(0.3cd/m2),如螢光、電漿發(fā)光等微弱光以及光源、顯示器量測。
*搭配功能豐富的專用軟體,可進行顯微分光、發(fā)光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光譜量測。
可架設于生產線上、真空環(huán)境或嵌入于現有設備中即時量測。



三.膜厚儀:顯微分光膜厚儀 反射式厚量測儀 橢m 360~1100nm 900~1600nm膜厚量測儀 膜厚光譜分析儀系統(tǒng) 顯微分光障厚是狽

應用范圍:
* FPD
·LCD、TFT、OLED(有機EL)
* 半導體、復合半導體
·矽ct time Measurement Time 1秒/1
* 盜料儲存
·DVD、磁頭薄膜、磁性材料
* 光學材料
·濾光片、抗反射膜
*平面顯示器
液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
*薄膜
·AR膜
*其它
·建筑用材料
產品規(guī)格
型號OP-A1OP-A2 OP-A3
波長范圍 230~800nm 360~1100nm 900~1600nm
膜厚范圍 1nm~35um 7nm~49um 16nm~92um
樣品尺寸 Max.200mmx200mmx17mm
點徑φp 5um(反射40倍鏡頭),改造后可達到3um
tact time Measurement Time 1秒/1點
尺寸本體(W555xD537xH559mm),控制單元(W500xD180xH288mm)功用750 VA
*1上述式樣是帶有自動XY平臺。
*2 release 時期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預定2016年9月
*3 膜厚范圍是Si02換算:
產品特點:
*膜厚測量中必要的功能集中于頭部,
*通過顯微分光高精度測量**反射率(多層膜厚、光學常數)
*1點只需不到1秒的高速tact.
*實現了顯微下廣測量波長范圍的光學系(紫外~近紅外)
*通過區(qū)域傳感器控制的**構造,
*搭載可私人定制測量順序的強大功能。
*即便是沒有經驗的人也可輕松解析光學常數,
各種私人定制對應(固定平臺,有嵌入式測試頭式樣)


四.反射式膜厚量測儀:

產品規(guī)格:
型號標準型 厚膜專用型
樣品大小*大200mmx200mmx7(厚度)mm
可測層數
膜厚范圍
發(fā)寸
1nm~40um 0.8um~210um 1um~240um 80um~1mm
波長范圍190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
測試單元
CCD CCD CCD PDA PDAInGaAs InGaAs
膜厚精度
±0.1nm(以NIST認證的標準樣品為依據)*2
重復性精度(2.10)
膜厚測試(Si基板上的SiO膜 100nm未滿:0.1nm*3
100nm以上:0.07%
反射率測試(Si基板)230nm~250nm:0.8%*4
250nm~800nm:0.4%*4
800nm~1050nm:0.8%*4
測試光斑*5φ40um<x5倍>、p20um<x10倍>、10um<x20倍>、p6.6um<x30倍>、(p5um<x40倍>對物鏡頭反射式對物鏡頭倍數:x10倍、x20倍、x30倍、x40倍
折射式對物鏡頭(可視):x5倍、x10倍、x20倍
測試光源D 2(紫外光)、12(可見光)、D2 + 2(紫外-可見光)
XYZ stage自動stage 手動stage行程X:200mm、Y:250mm、Z:10mmX:200mm、Y:250mm、Z:10mm重復性精度2um<0.5um>
驅動分辨率1um<0.1um>
尺寸·重量481 (W)mmx770(H)mmx714(D)mm約96kg 427 (W)mmx770(H)mmx725(D)mm約88kg

控制單元自動stage 手動stage尺寸·重量300(W)mmx710(H)mmx450(D)mm約34kg 300(W)mmx380 (H)mmx450(D)mm約18kg

電源 規(guī)格AC100V+10V 750VA AC100V+10V 500VA

軟件
測試
手動測試/連續(xù)測試/制圖測試(mapping)/測試與計算同步功能非線性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*適化法
解析
基板解析/里面反射補正/各類nk解析模型式**反射率/解析結果Fitting/折射率n的波長相關性/消光系數k的波長相關性3D顯示功能(面內膜厚分布、鳥窺圖、等高線、斷面圖)系統(tǒng)維護材料文件構建(database管理)、硬件的各種設定基官樣品對焦的數值顯示功能、自動對焦功能(自動stage有此功能)、內部反射補正功能
數據處理
數據處理臺式電腦、顯示器、打印機
*1具體請咨詢本公司。
*2以VLSI公司的標準樣品(100nm Si02/Si)范圍值保證書為依據。
*3量測VLSI公司的標準樣品(100nm Si02/Si)同一點位時之重復性。(2.1倍0)4具體參照相關保證書,
5鏡頭為選配件,具體請咨詢本公司。