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HONNDA本多電子用于實(shí)驗(yàn)室，一般清洗，半導(dǎo)體，工業(yè)超聲波清洗設(shè)備||國(guó)內(nèi)銷售
用于實(shí)驗(yàn)室和一般清洗

適用于實(shí)驗(yàn)室和清洗較小的工件，如玻璃、或少量的工件。



WTC-404 / WTC-408 [臺(tái)式超聲波清洗機(jī)]

四種振蕩模式提供強(qiáng)有力的清洗，減少清洗不均勻。



W-113A [臺(tái)式超聲波清洗機(jī)]

這種緊湊型清洗機(jī)配備了一個(gè)三頻多振蕩系統(tǒng)，可選擇三種不同的頻率，具有不同的清洗特性，以提高清洗效果。




W-113MKII [臺(tái)式超聲波清洗機(jī)]

兩個(gè)頻率接近的 "強(qiáng)清洗 "模式可以**頑固的污垢。




WV-231-S1 [臺(tái)式超聲波清洗機(jī)]
通過(guò)降低清洗槽內(nèi)的壓力（減壓），它還能有效地清洗一般難以清洗的微孔和盲孔內(nèi)部。 它還能減少清洗時(shí)間。
工業(yè)清洗機(jī)
這些清洗機(jī)在工廠中用于清洗零件和其他部件。

可以根據(jù)客戶要求制造由振蕩器和換能器單元組成的獨(dú)立類型。



WDX系列[超聲波清洗機(jī)分離型]

我們獨(dú)特的DynaShock Modulation（DM）系統(tǒng)，通過(guò)全數(shù)字技術(shù)實(shí)現(xiàn)了從弱到強(qiáng)的清洗，提供*佳的清洗力。




WA系列[超聲波清洗機(jī)分離型]

RS485通訊（MODBUS® RTU）可以檢查各種設(shè)置和操作條件。 可以設(shè)置頻率和輸出功率，并可讀出振蕩狀態(tài)，用于預(yù)防性維護(hù)。



WSC28 / 40 [超聲波清洗機(jī)分離型]

FM+AM振蕩確保了槽內(nèi)超聲波的均勻性，減少了清洗的不規(guī)則性，更能抵抗清洗材料、液體類型和深度的負(fù)荷波動(dòng)。



WSC(M)系列[超聲波清洗機(jī)分離型]

用于生產(chǎn)線、設(shè)備集成和節(jié)省空間的緊湊型工業(yè)清洗機(jī)。



WTC-600-40/WTC-1200-40 [臺(tái)式超聲波清洗機(jī)]
大型桌面式洗衣機(jī)。 除了大容量的洗滌槽和高產(chǎn)量之外，該機(jī)器還可以通過(guò)語(yǔ)音指導(dǎo)和光電開(kāi)關(guān)進(jìn)行免提操作；FM+AM調(diào)制系統(tǒng)減少了不均勻的洗滌，是一種高效、節(jié)能的類型。


半導(dǎo)體行業(yè)的清洗機(jī)
用于清洗半導(dǎo)體晶圓和掩模的高頻清洗機(jī)。

根據(jù)不同的目的，可以進(jìn)行批量清洗和單晶硅清洗。




W-357BM系列[高頻分離型]
分離式清洗機(jī)由一個(gè)發(fā)振器和一個(gè)換能器單元組成。
批量式清洗允許一次清洗多個(gè)半導(dǎo)體晶圓。

振蕩器單元可根據(jù)客戶要求制造。



流動(dòng)水式超聲波清洗機(jī)[高頻點(diǎn)式]
脈沖噴射清洗機(jī)在干凈的水流中進(jìn)行清洗。

適用于單晶片清洗。



流動(dòng)水式超聲波清洗機(jī)[高頻線型]
脈沖噴射清洗機(jī)在干凈的水流中進(jìn)行清洗。

顆粒會(huì)被清洗液流水幕所**。



石英振動(dòng)體清洗機(jī)【高頻石英振動(dòng)體清洗機(jī)】
這種清洗機(jī)通過(guò)在石英振動(dòng)體上疊加超聲波來(lái)清洗晶片和掩模。
它實(shí)現(xiàn)了低損害和高清洗度。
聲壓計(jì)

將傳感器放在超聲波清洗機(jī)的水槽（或流動(dòng)的水）中，聲壓強(qiáng)度以mV為單位顯示。



HUS-3 [便攜式聲壓計(jì)]
是清洗質(zhì)量控制的必需品，用于監(jiān)測(cè)超聲波清洗機(jī)的超聲波輸出。 配有可充電電池，便于攜帶。